PVD cơ bản có 2 phương pháp lắng đọng chính đó là : phún xạ ( sputtering ) và bay hơi ( evaporation) . Từ đó trong thực tế đã và đang ứng dụng những kỹ thuật lặng đọng như sau : arc cathode , e- beam , evaporation , pulsed laser , sputter … depositon.
Lắng đọng hơi vật lý (PVD) bao gồm một tập hợp các quá trình mạ chân không, trong đó vật liệu sử dụng được giải phóng vật lý ra khỏi nguồn rắn hay gọi là “điện cực”-target bằng cách bay hơi-evaporation hoặc phún xạ- sputtering trong môi trường chân không .
